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日立分析儀器推出OE750直讀光譜儀

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更新時間: 2021-09-07
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詳情信息

由于復(fù)雜的供應(yīng)鏈,以及作為基礎(chǔ)材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加,鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質(zhì)和痕量元素時,面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有從未有過的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜,并實現(xiàn)對某些元素的zui低檢出限。因此,此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優(yōu)質(zhì)分析。

 

OE750實現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了先進(jìn)CMOS探測器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍;這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要,該分析儀可以滿足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗方法的要求。

 

OE750是鋁鑄件的理想光譜儀,因為它可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量較低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉,以及雜質(zhì)和痕量元素,從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中,以優(yōu)化結(jié)構(gòu)改造。創(chuàng)新性光學(xué)設(shè)計能實現(xiàn)更短的啟動時間,因為光學(xué)系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點測量驗證熔體質(zhì)量的工廠實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

 

除了新的光學(xué)設(shè)計之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個新的密封火花臺,具有優(yōu)化層流設(shè)計,可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨特中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

 

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫,該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標(biāo)準(zhǔn),減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤??蛇x的爐料校正軟件會自動計算添加至熔體中的正確材料量,使其符合規(guī)范。


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