一、鋁合金硬質(zhì)氧化的優(yōu)勢(shì)：

　　1、鋁合金硬質(zhì)氧化后表面硬度最高可達(dá)HV500左右。

　　2、氧化膜厚度25-250um。

　　3、附著力強(qiáng)，根據(jù)硬質(zhì)氧化所生成的氧化特點(diǎn)：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長(zhǎng)）。

　　4、絕緣性好：擊穿電壓可達(dá)2000V（完善的封孔）。

　　5、耐磨性能好：對(duì)于含銅量未超過(guò)2%的鋁合金其最大的磨耗指數(shù)為3.5mg/1000轉(zhuǎn)。其他所有的合金磨耗指數(shù)不應(yīng)超過(guò)1.5mg/1000轉(zhuǎn)。

　　6、無(wú)毒：氧化膜和用來(lái)生產(chǎn)陽(yáng)極氧化膜的電化學(xué)工藝應(yīng)對(duì)人體無(wú)害。  因此很多行業(yè)為了減輕產(chǎn)品的重量、機(jī)械加工的方便、環(huán)保低毒等要求，目前有的部分產(chǎn)品中的部份零部件由鋁合金硬質(zhì)氧化來(lái)代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。

　　二、硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別：

　　硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。

　?。ㄒ唬┎僮鳁l件方面的差異：

　　1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過(guò)高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來(lái)說(shuō)溫度越低硬質(zhì)越高。

　　2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。

　　3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。

　　（二）膜層性能方面的差異：

　　1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過(guò)低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。

　　2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。

　　3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。

　　4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。

　　5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。  這些是我們平常用的較多的性能方面的比較，還有其他許多方面的差異。