本發(fā)明涉及一種鏡面鋁表面直接鍍膜方法，屬于鋁及其合金技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括用水、稀酸、堿液清洗鋁板表面;清洗后的鋁板采用陶瓷材料進(jìn)行真空鍍膜處理，在鋁板表面形成薄膜，所述的陶瓷材料為Si3N4，Ti3N4?利用本發(fā)明的方法制成的鏡面鋁，表面形成的薄膜層不僅顏色多樣，美觀性好，耐蝕性、耐磨性、抗疵性;而且該方法工藝簡(jiǎn)單、對(duì)環(huán)境污染少、生產(chǎn)成本低，有利于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。

　　1.一種鏡面鋁表面直接鍍膜方法，該方法包括用水、稀酸、堿液清洗鋁板表面;清洗后的鋁板采用陶瓷材料進(jìn)行真空鍍膜處理，在鋁板表面形成薄膜。
　　
　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法，其特征在于：所述的稀酸是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%_5%稀鹽酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%-5%稀硝酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%-5%稀硫酸中的一種，所述的堿液為無(wú)機(jī)堿溶液。
　　
　　3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法，其特征在于：所述的陶瓷材料為Si3N4，Ti3N4中的一種或兩種。
　　
　　4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法，其特征在于：通過(guò)真空鍍膜后在鋁板表面形成薄膜的厚度為5?15ym。
　　
　　5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法，其特征在于：通過(guò)真空鍍膜后在鋁板表面形成薄膜的厚度為5?15ym。
　　
　　一種鏡面鋁表面直接鍍膜方法
　　
　　技術(shù)領(lǐng)域
　　
　　[0001]本發(fā)明涉及一種鋁表面鍍膜方法，尤其涉及一種鏡面鋁表面直接鍍膜方法，屬于鋁及其合金技術(shù)領(lǐng)域。
　　
　　背景技術(shù)
　　
　　[0002]鋁及其合金是一種輕金屬材料，具有密度小、導(dǎo)電導(dǎo)熱能力強(qiáng)、力學(xué)性能優(yōu)異、可二次加工等優(yōu)點(diǎn)，因此在工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。
　　
　　[0003]由于鋁及其合金等輕金屬是一種易腐蝕材料，通常是對(duì)其表面進(jìn)行處理來(lái)降低其腐蝕?，F(xiàn)有技術(shù)主要采用化學(xué)轉(zhuǎn)化處理和陽(yáng)極氧化等表面處理方法。鋁及其合金材料經(jīng)過(guò)表面處理后，雖然在一定程度上改善了其耐腐蝕性和耐磨性，但是由于經(jīng)過(guò)化學(xué)處理或陽(yáng)極氧化處理后，金屬表面粗糙，缺少美觀性。為解決這些問(wèn)題，通常鋁及其合金材料經(jīng)過(guò)表面處理后再在其表面著色以增加鋁及其合金材料的表面美觀性。
　　
　　[0004]中國(guó)專利申請(qǐng)(公開(kāi)號(hào)：CN101381871A)披露了一種鏡面鋁的制備方法，該方法是先將鋁基板在溫度為50?70°C下，用濃度為5%?8%的稀酸清洗，在100°C?110°C的條件下，烘干;將烘干后的基板表面涂上阻垢緩蝕劑，再在烘箱中烘干;然后將烘干的基板在無(wú)塵環(huán)境下表面噴涂紫外固化油漆作底漆，并流平，放入40?60°C的紫外線固化烘箱內(nèi)4?6kw的強(qiáng)紫外線照射固化25?35秒;再將固化后的的基板進(jìn)行8?15分鐘真空鍍膜，得到顏色單一的鏡面板，最后將上述顏色單一的鏡面板在無(wú)塵環(huán)境下表面噴涂紫外光固化油漆作面漆，并流平，放入40?60°C的紫外線固化烘箱內(nèi)4?6kw的強(qiáng)紫外線照射固化25?35秒，得到有色的鏡面鋁。該方法的缺點(diǎn)是該制作方法需要經(jīng)過(guò)兩次鍍膜才能得到有色的鏡面鋁，加Ti過(guò)程復(fù)雜，成本高;且著色材料油漆中含有苯、甲苯等易揮發(fā)有害物質(zhì)，影響環(huán)境，對(duì)人體具有傷害作用。
　　
　　發(fā)明內(nèi)容
　　
　　[0005]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，提出了一種制備方法簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、顏色多樣，美觀性好的鏡面鋁表面直接鍍膜方法。
　　
　　[0006]本發(fā)明的上述目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)，一種鏡面鋁表面直接鍍膜方法，該方法包括用水、稀酸、堿液清洗鋁板表面;清洗后的鋁板采用陶瓷材料進(jìn)行真空鍍膜處理，在鋁板表面形成薄膜。
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　　[0007]由于鋁板暴露在空氣中很容易造成鋁板腐蝕，表面的腐蝕層不僅色澤暗淡，影響美觀性，而且影響后面的鍍膜處理?？梢圆捎盟?、稀酸、堿液將鋁板表面的氧化鋁薄膜層除去，以便于后面的鍍膜處理步驟。
　　
　　[0008]本發(fā)明采用的現(xiàn)有技術(shù)中普通的真空鍍膜法，是指真空條件下把鍍膜材料進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射鍍膜，使其沉積在待鍍膜基片的表面上。如采用普通的真空蒸發(fā)鍍膜法，但是本發(fā)明采用的真空鍍膜材料采用陶瓷材料，鍍膜表面顏色多樣，使鋁板形成具有較高耐腐蝕和耐磨性能的鏡面鋁，真空鍍膜時(shí)間為10-80分鐘。
　　
　　[0009]在上述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法中，所述的稀酸是質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%-5%稀鹽酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%_5%稀硝酸、質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%-5%稀硫酸中的一種，所述的堿液為無(wú)機(jī)堿溶液。本發(fā)明采用稀酸處理而不采用高濃度的酸處理是由于用高濃度的酸處理，易在鋁等金屬表面發(fā)生鈍化反應(yīng)，達(dá)不到處理的效果。進(jìn)一步的優(yōu)選，稀酸為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1%-5%的稀鹽酸，堿液為濃度為1-5%的氫氧化鈉溶液或濃度為10-20%的碳酸鈉溶液中的一種。
　　
　　[0010]在上述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法中，所述的陶瓷材料為Si3N4，Ti3N4中的一種或兩種。本發(fā)明采用的陶瓷材料Si3N4，Ti3N4材料是高耐熱、耐酸、高耐磨的材料，所以用Si3N4，Ti3N4作材料，能有效的提高鏡面鋁的抗磨性和抗腐蝕性的性能。同時(shí)，真空鍍膜后，得到的鏡面鋁表面光滑、平整，且鍍膜的色彩多樣，能根據(jù)實(shí)際需要制得不同色彩的鏡面鋁。
　　
　　[0011]在上述的鏡面鋁表面直接鍍膜方法中，通過(guò)真空鍍膜后在鋁板表面形成薄膜的厚度為5?15ym。
　　
　　[0012]綜上所述，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)：
　　
　　[0013]1、本發(fā)明的直接鍍膜方法工藝簡(jiǎn)單、對(duì)環(huán)境污染少、生產(chǎn)成本低，有利于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
　　
　　[0014]2、采用本發(fā)明的直接鍍膜方法在鏡面鋁表面形成的薄膜層不僅顏色多樣，美觀性好，而且直接鍍膜后的鏡面鋁具有極好的耐蝕性、耐磨性、抗疵性的優(yōu)點(diǎn)。
　　
　　具體實(shí)施例
　　
　　[0015]下面通過(guò)具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說(shuō)明;但是本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。
　　
　　[0016]實(shí)施例1
　　
　　[0017]將鋁板先用水清洗，洗去鋁板表面的臟污物，洗凈后，再使鋁板的溫度在40°C?45°C內(nèi)，用質(zhì)量濃度為3%的稀鹽酸清洗鋁板表面，去除表面的腐蝕層和油污等雜質(zhì)，然后再用質(zhì)量濃度為15%碳酸鈉溶液清洗鋁板，最后用水清洗殘留在鋁板表面的酸堿液，清洗至洗液呈中性后，放在烘干箱中烘干。
　　
　　[0018]將上述經(jīng)過(guò)預(yù)處理好的鋁板取出后，預(yù)熱到180°C后，然后將其放在真空室內(nèi)進(jìn)行真空鍍膜處理。所述的真空鍍膜為普通的蒸發(fā)鍍膜，即鍍膜時(shí)，將蒸發(fā)源Ti3N4材料放在真空室內(nèi)的坩堝上，并將鋁板放在坩堝的正前方，真空室內(nèi)抽真空后，用電子束加熱坩堝使其中的蒸發(fā)源Ti3N4材料蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子沉積在坩堝正前方的鋁板上，蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率為120?200m/min，鍍膜時(shí)間在20?30分鐘。真空鍍膜結(jié)束，得到彩色的鏡面鋁，鏡面鋁表面形成薄膜的厚度為5?15pm。
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　　[0019]實(shí)施例2
　　
　　[0020]將鋁板先用水清洗，洗去鋁板表面的臟污物，洗凈后，再將鋁板在室溫下用質(zhì)量濃度為5%的稀鹽酸清洗鋁板表面，去除表面的腐蝕層和油污等雜質(zhì)，然后再用質(zhì)量濃度為3%氫氧化鈉溶液清洗鋁板，最后用水清洗殘留在鋁板表面的酸堿液，清洗至洗液呈中性后，放在烘干箱中烘干。
　　
　　[0021]將上述經(jīng)過(guò)預(yù)處理好的鋁板取出后，預(yù)熱到180°C后，然后將其放在真空室內(nèi)進(jìn)行真空鍍膜處理。所述的真空鍍膜為普通的蒸發(fā)鍍膜，即鍍膜時(shí)，將蒸發(fā)源Si3N4材料放在真空室內(nèi)的坩堝上，并將鋁板放在坩堝的正前方，真空室內(nèi)抽真空后，用電子束加熱坩堝使其中的蒸發(fā)源Si3N4材料蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子沉積在坩堝正前方的鋁板上，蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率為120?200m/min，鍍膜時(shí)間在30?40分鐘。真空鍍膜結(jié)束，得到彩色的鏡面鋁，鏡面鋁表面形成薄膜的厚度為5?15pm。
　　
　　[0022]本發(fā)明中所描述的具體實(shí)施例僅是對(duì)本發(fā)明精神作舉例說(shuō)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類(lèi)似的方式替代，但并不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權(quán)利要求書(shū)所定義的范圍。
　　
　　[0023]盡管對(duì)本發(fā)明已作出了詳細(xì)的說(shuō)明并引證了一些具體實(shí)施例，但是對(duì)本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，只要不離開(kāi)本發(fā)明的精神和范圍可作各種變化或修正是顯然的。